9月18日，光刻機(jī)板塊掀起漲停潮。 張江高科、同飛股份、波長(zhǎng)光電、海立股份漲停，新萊應(yīng)材、富樂(lè)德、藍(lán)英裝備漲超10%，東方嘉盛、國(guó)林科技、京華激光、凱美特氣跟漲。
消息面上，為促進(jìn)首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備創(chuàng)新發(fā)展和推廣應(yīng)用，加強(qiáng)產(chǎn)業(yè)、財(cái)政、金融、科技等國(guó)家支持政策的協(xié)同，工信部于9月9日印發(fā)《首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄(2024 年版)》(以下簡(jiǎn)稱(chēng)《目錄》)通知，在文件列表包含國(guó)產(chǎn)氟化氪光刻機(jī)(110nm)，和氟化氬光刻機(jī)(65nm)等集成電路關(guān)鍵生產(chǎn)設(shè)備。
工信部微信公眾號(hào)“工信微報(bào)”介紹，重大技術(shù)裝備是國(guó)之重器，事關(guān)綜合國(guó)力和國(guó)家安全。中國(guó)首臺(tái)(套)重大技術(shù)裝備是指國(guó)內(nèi)實(shí)現(xiàn)重大技術(shù)突破、擁有知識(shí)產(chǎn)權(quán)、尚未取得明顯市場(chǎng)業(yè)績(jī)的裝備產(chǎn)品，包括整機(jī)設(shè)備、核心系統(tǒng)和關(guān)鍵零部件等。
《目錄》中的電子專(zhuān)用裝備目錄下提到，集成電路生產(chǎn)設(shè)備方面包括化氟化氪光刻機(jī)，光源248納米，分辨率≤110nm，套刻≤25nm;氟化氬光刻機(jī)，光源193納米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。
除了光刻機(jī)，其他集成電路生產(chǎn)設(shè)備還包括硅外延爐、濕法清洗機(jī)、氧化爐、涂膠顯影機(jī)、高能離子注入機(jī)、低能離子注入機(jī)、等離子干法刻蝕機(jī)、特征金屬膜層刻蝕機(jī)、化學(xué)氣相沉積設(shè)備、物理氣相沉積裝備、化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)、激光退火裝備、光學(xué)線寬量測(cè)裝備等。
目前來(lái)說(shuō)，光刻機(jī)共經(jīng)歷了六代的發(fā)展，從最早的 436nm 波長(zhǎng)，再到第二代光刻機(jī)開(kāi)始使用波長(zhǎng) 365nm i-line，第三代則是 248nm 的 KrF 激光，第四代就是 193nm 波長(zhǎng)的 ArF 光刻機(jī)，屬于干式DUV光刻機(jī)。第五代是ArFi，即浸沒(méi)式DUV光刻機(jī)。第六代指的是極紫外EUV光刻機(jī)。
國(guó)際方面，9月6日，荷蘭政府宣布，擴(kuò)大光刻機(jī)出口管制范圍至浸沒(méi)式深紫外光刻設(shè)備。這與美國(guó)去年10月更新的先進(jìn)芯片制造技術(shù)出口管制政策進(jìn)行了“對(duì)齊”。此前，荷蘭政府對(duì)光刻機(jī)的出口限制措施還沒(méi)有如此嚴(yán)格。現(xiàn)在，荷蘭政府自己收緊了對(duì)光刻機(jī)的出口限制——阿斯麥如果要向中國(guó)出口TWINSCAN NXT：1970i和1980i型號(hào)浸潤(rùn)式DUV光刻系統(tǒng)，需要先向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。而更先進(jìn)的極紫外(EUV)光刻機(jī)此前早已被完全禁止出口中國(guó)。
中國(guó)商務(wù)部新聞發(fā)言人9月8日表示，近來(lái)，中荷雙方就半導(dǎo)體出口管制問(wèn)題開(kāi)展了多層級(jí)、多頻次的溝通磋商。荷方在2023年半導(dǎo)體出口管制措施的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步擴(kuò)大對(duì)光刻機(jī)的管制范圍，中方對(duì)此表示不滿。
文/北京青年報(bào)記者 朱開(kāi)云
評(píng)論